Description
Rilevamento del Coperchio Superiore Lo stampante può essere impostato per arrestare la stampa subito dopo l’apertura del coperchio
Fonte di Luce Parallela Matriciale Nuova Vanta una esposizione più omogenea
Può posizionare rapidamente gli angoli della piattaforma di stampa durante il livellamento
Colori del multi-stile
come la rimozione dei supporti
Anycubic Photon Mono 4 Include macchina:Wash & Cure 3 Plus Rilevamento del Coperchio Superiore LoAnycubic Photon Mono 4
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